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多晶硅清洗用EDI超纯水设备
产品描述
多晶硅清洗用EDI超纯水设备
一、多晶硅清洗用EDI超纯水设备概述
超纯水设备传统的制备的工艺大都是运用离子交换树脂来制取的，运用的是离子交换树脂一般都要经常的来进行树脂的再生，不但浪费人工还耗费物力，莱特莱德公司通过常年的实践与操作，并结合着最新型膜分离的技术，经常运用反渗透和EDI相结合用之来制做超纯水，这个工艺和传统工艺相比较而言具有运行的成本低等优点，运行还很可靠。和最新的工艺相比具有耗材易得，造价低等的诸多优点。反渗透工艺技术很先进，也很可靠。
在太阳能电池、单晶硅多晶硅硅片硅材料清洗、LED、LCD、光电光学行业领域，在设备设计上，采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级RO+EDI水处理工艺，确保处理后的超纯水水质符合要求，水利用率高，运行可靠，经济合理。关键设备及材料均采用国际主流先进可靠产品，采用PLC+触摸屏控制，全套系统自动化程度高，系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本。使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。
二、多晶硅清洗用EDI超纯水设备性能优势
1、可连续，稳定地生产高品质纯水，无需因树脂再生而停机。
2、无污染物排放，既环保又省去了废液处理的投资。
3、设备结构紧凑，占地面积小，节省空间，同时还具有节能优点。
4、出厂完成装置调试，现场工作量小，上岗培训容易。
5、日常保养，操作简单，劳动强度低。
EDI作为制取超纯水的设备，作为反渗透设备后的二次除盐设备，可以制取出高达10-18.2MΩ.CM。因此广泛用于微电子工业，半导体工业，发电工业，制药行业和实验室。也可以作为制药蒸馏水、食物和饮料生产用水、发电厂的锅炉的补给水，以及其它应用超纯水。
三、多晶硅清洗用EDI超纯水设备技术本质及原理
连续电除盐(EDI，Electrodeionization或CDI，continuouselectrodeionization)，是利用混和离子交换树脂吸附给水中的阴阳离子，同时这些被吸附的离子又在直流电压的作用下，分别透过阴阳离子交换膜而被除去的过程。这一过程离子交换树脂是电连续再生的，因此不需要使用酸和碱对之再生。这一新技术可以替代传统的离子交换装置，生产出高达18M-CM的超纯水。又可以比较清晰地描述如下：EDI是利用阴、阳离子膜，采用对称堆放的形式，在阴、阳离子膜中间夹着阴、阳离子树脂，分别在直流电压的作用下，进行阴、阳离子交换。而同时在电压梯度的作用下，水会发生电解产生大量H+和OH-，这些H+和OH-对离子膜中间的阴、阳离子不断地进行了再生。由于EDI不停进行交换——再生，使得纯水度越来越高，所以，轻而易举的产生了高纯度的超纯水。
